對于ASML光刻機接下來怎么出口的問題,現在官方終于給出了答案。
ASML在最新的聲明中指出,這些新的出口管制措施側重于先進的芯片制造技術,包括最先進的沉積設備和浸潤式光刻系統(tǒng)。
ASML強調,新的出口管制措施并不針對所有浸潤式光刻系統(tǒng),而只涉及所謂“最先進”的浸潤式光刻系統(tǒng)。截至目前企業(yè)尚未收到有關“最先進”的確切定義的信息,公司將其解讀為在資本市場日會議上定義的“關鍵的浸潤式光刻系統(tǒng)”,即TWINSCANNXT:2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)。
所謂浸沒式光刻機,屬于193nm(光源)光刻機(分為干式和浸沒式),可以被用于16nm至7nm先進制程芯片的制造,但是目前也有被業(yè)界廣泛應用在45nm及以下的成熟制程當中。
ASML公司官網信息顯示,該公司主流的DUV光刻機產品共有三款設備:TWINSCAN NXT:1980Di,TWINSCAN NXT:2000i和TWINSCAN NXT:2050i,其中2000i和2050i兩款是公司在聲明所指的產品。
ASML官網上關于這一臺TWINSCAN NXT:1980Di的介紹,其中在分辨率方面,寫到是大于等于38nm,而這是指一次曝光的分辨率,事實上光刻機是可以進行多次曝光的。
理論上NXT:1980Di依然可以達到7nm,只是步驟更為復雜,成本更高,良率可能也會有損失,晶圓廠用這一臺光刻機,大多是生產14nm及以上工藝的芯片,很少去生產14nm以下的工藝,因為良率低,成本高,沒什么競爭力。