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臺(tái)積電沖刺先進(jìn)制程,高雄2nm廠擴(kuò)建

2024年12月16日 07:22  集微網(wǎng)  

臺(tái)積電高雄新廠2nm進(jìn)度超前,有意擴(kuò)大高雄投資,規(guī)劃于前中油高雄煉油廠土地興建第三期廠房(P3),第四期(P4)、第五期(P5)也啟動(dòng)環(huán)評(píng),并爭取擴(kuò)大開發(fā)面積,將在P3東側(cè)接續(xù)擴(kuò)建,延續(xù)先進(jìn)制程。根據(jù)規(guī)劃,P3廠在2026年完工后,預(yù)計(jì)P4、P5廠也將在2027年接力完工。

法人看好,臺(tái)積電擴(kuò)大高雄先進(jìn)制程投資,意味客戶訂單持續(xù)涌入,公司有必要增加更多產(chǎn)能,為后續(xù)運(yùn)營增添更多動(dòng)能。

臺(tái)積電在中國臺(tái)灣布局2nm,新竹寶山、高雄新廠兩路并進(jìn),預(yù)計(jì)2025年量產(chǎn)。高雄廠是臺(tái)積電在當(dāng)?shù)氐氖鬃?2英寸廠,原定以成熟制程切入,2023年8月董事會(huì)拍板朝2nm擴(kuò)充發(fā)展,原規(guī)劃相關(guān)設(shè)備最快2025年第三季進(jìn)機(jī),已提前至11月底進(jìn)機(jī),較原計(jì)劃超前半年以上。

臺(tái)積電高雄廠布局順?biāo),?guī)劃在原中油高雄煉油廠土地內(nèi)興建P3,但全球半導(dǎo)體業(yè)急劇變動(dòng)及國際競爭力,基于產(chǎn)業(yè)制程全球布局考量,仍具緊迫持續(xù)推動(dòng)建廠運(yùn)營需求,規(guī)劃在P3廠房旁土地啟動(dòng)擴(kuò)建P4、P5計(jì)劃,發(fā)揮產(chǎn)能群聚綜效。

根據(jù)環(huán)評(píng)數(shù)據(jù),臺(tái)積電正爭取擴(kuò)大P4、P5開發(fā)面積,原本10月規(guī)劃面積約41公頃,最新定案面積增至43公頃左右,加計(jì)原申請(qǐng)的P3廠面積后,合計(jì)基地面積約60公頃。臺(tái)積電12月26日將召開“原中油公司高雄煉油廠土地新建半導(dǎo)體廠擴(kuò)建計(jì)劃”環(huán)境影響說明書公開會(huì)議,正式對(duì)外說明。

臺(tái)積電在一期園區(qū)啟動(dòng)第一期(P1)、第二期(P2)建廠后,今年啟動(dòng)P3擴(kuò)建計(jì)劃,但擴(kuò)廠用地迫切,決定在P3廠旁接續(xù)啟動(dòng)P4、P5廠擴(kuò)建計(jì)劃。

編 輯:章芳
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